關(guān)鍵詞：顯影液/四甲基氫氧化銨

行業(yè)：半導體/光刻膠

CT-1Plus電位滴定測定顯影液中四甲基氫氧化銨的濃度

摘要

顯影液是光刻過程中關(guān)鍵的化學材料，廣泛應用于半導體制造和微電子器件。常見的顯影液成分是四甲基氫氧化銨（TMAH）。顯影液的主要作用是去除光刻膠中未固化的部分，從而在基材上形成所需的圖案。本例通過電位滴定法測定一種顯影液中四甲基氫氧化銨的濃度。

儀器配置

●CT-1Plus電位滴定儀

●pH-102電極

●20mL高精度計量管

●100mL滴定杯

試劑配置

●滴定劑：鹽酸標準溶液

●滴定度：0.0801mol/L

●溶劑：純水

測定方法

●酸堿滴定/電位滴定

●適量樣品于干燥燒杯中，加入50mL純水，攪拌溶解

●將燒杯置于滴定臺上，選擇四甲基氫氧化銨滴定方法，用鹽酸標準溶液滴定到終點

儀器參數(shù)

● 最小滴定體積：20μL  

● 最大滴定體積：100μL

● 攪拌速度：200        

● 每滴間隔：1000ms

● 終點模式：微分閾值判定  

● 微分設置：200

測試數(shù)據(jù)

● 環(huán)境溫度：23℃ ● 環(huán)境濕度：50%  

● 測試時間：3min

測試結(jié)果：經(jīng)測試，樣品的四甲基氫氧化銨濃度約為2.3863%。